ADI晶圓各種材料工藝對應輸出功率及頻率
發布時間:2021-05-21 17:09:32 瀏覽:3972
在電子器件中,射頻和功率應用是主要的。GaN on SiC、GaN自支撐襯底、GaAs襯底、GaAs on Si主要用于射頻半導體(射頻前端PA等),而Gan on Si和SiC襯底主要用于功率半導體(汽車電子學等)。
由于其高功率密度,GaN在基站大功率器件領域具有獨特的優勢。與硅襯底相比,SiC襯底具有更好的導熱特性。目前,工業上95%以上的GaN射頻器件使用SiC襯底,如Qorvo是基于SiC襯底的,硅基GaN器件可以在8英寸的晶片上制作,具有更高的成本優勢。在功率半導體領域中,SiC襯底與GaN on Silicon的競爭僅占該領域的一小部分。GaN市場主要集中在低壓領域,而SiC主要用于高壓領域。他們的邊界約為600 V。
深圳市立維創展科技有限公司,優勢渠道提供ADI晶圓產品Waffle,專業此道,歡迎合作。
詳情了解ADI Wafer Products請點擊:/brand/68.html
或聯系我們的銷售工程師:0755-83050846 QQ: 3312069749

下一篇: Bird-射頻專家精密功率傳感器
推薦資訊
高效、節省空間、低發熱、100mA、同步Buck電源模塊,采用uSLIC封裝
根據NVIDIA和AMD宣布的技術路線圖,GPU將于2018年進入12 nm/7nm工藝。目前,AI、與采礦機相關的FPGA和ASIC芯片也在使用10~28 nm的先進工藝。國內制造商已經出現了寒武紀、深鑒科技、地平線、比特大陸等優秀的集成電路設計制造商以實現突破,而制造主要依靠臺積電和其他先進工藝合同制造商。
在線留言